技术编号：11155698
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及集成电路版图设计领域，尤其涉及一种由器件版图生成剖面图的方法。背景技术在集成电路版图设计中，由若干种不同颜色的图形代表不同的工艺层组合叠加形成器件，器件的版图图形是平面图形，不是立体图形，给没有半导体器件技术背景的设计师在判断器件的结构方面存在困扰，一般设计师依据检查文件对版图设计进行DRC、LVS检查，保证设计规则和电路的正确性。一旦有一些复杂的器件图形，而又由于检查文件的原因而未检查出来，很容易造成设计错误，导致流片的失败。中国专利CN103578930A“多重图形化的掩膜层的形成...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。
请注意，此类技术没有源代码，用于学习研究技术思路。