技术编号:11158481
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于气体放电与放电等离子体技术领域,特别涉及了一种常温等离子体射流产生装置。背景技术等离子体是由电子、离子等带电粒子以及中性粒子组成的,宏观上呈中性。在目前气体放电等离子体技术中,按照电子温度与离子温度,放电等离子体可分为:高温等离子体和低温等离子体。其中,电子温度和离子温度相等则称为高温等离子体,反之,称为低温等离子体。因为低温等离子体中富含活性粒子(如带电粒子、O、OH、NO和O3等),所以近年来被广泛应用于材料表面处理、废气处理、纳米催化等诸多领域。特别是,大气压常温等离子体射流的出...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。
该类技术注重原理思路,无完整电路图,适合研究学习。