技术编号:11158969
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及磁共振成像(以下,称为MRI)技术,特别是涉及一种对因静磁场不均匀及梯度磁场非线性而产生的伪影(Artifact)进行抑制的技术。背景技术在水平磁场MRI装置中,主流的是为了重视被检体的开放感而缩短了门架的Z轴(磁场方向)长度的短门架型MRI装置。但是,在短门架型MRI装置中,由于静磁场均匀空间和梯度磁场线性区域狭窄,因此,门架端部的磁场会产生变形。因为摄影FOV以外的磁场变形的影响,会在摄影FOV内产生高亮度的亮点或者月牙形伪影。将其称为尖状伪影(CuspArtifact)。在将Z轴...
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