技术编号：11160671
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。光刻设备和制造光刻设备的方法相关申请的交叉引用本申请主张2014年7月1日提交的欧洲申请14175307.9的权益，其通过引用而全文合并到本文中。技术领域本发明涉及一种光刻设备和一种制造光刻设备的方法。背景技术光刻设备是将所需图案施加至衬底上(通常施加至衬底的目标部分上)的机器。光刻设备可(例如)用于集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成待形成在所述IC的单层上的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯...
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