技术编号:11167847
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及基片清洗的技术领域,具体涉及一种玻璃基片的清洗设备。背景技术在光电器件制造过程中,需要对玻璃基片进行清洗处理,现有玻璃基片清洗设备的结构大多如图1所示,该清洗设备包括箱体1,箱体1具有顶部开口和内腔,内腔中平行成型有两块隔板13,两块隔板13将内腔分割为位于两侧的侧槽11和位于两个侧槽之间的清洗腔体12;水平穿设在箱体上且相对设置的两个喷淋管41,以及位于两个喷淋管41之间的传动轴5;侧槽11的顶部开口位于两个喷淋管41之间,并在侧槽11的顶部开口上通过密封胶固定有盖板2;以及在箱...
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