技术编号：11172380
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及蚀刻液组合物，特别是涉及一种用于蚀刻含铜金属层的碱性蚀刻液组合物及应用其的蚀刻方法。背景技术现在不论是在大尺寸或是在中小尺寸液晶显示器，具高解析度(HD)影像品质(1366×768)或全高解析度(FHD)影像品质(1920×1080)的面板已趋于普及化。对于具有高解析度需求的显示器，薄膜电晶体阵列工程段便需要制作出更细小的线路，以达成在单位面积增加更多画素的任务。再者，配线材料先前多以铝或铝合金为主，随着大尺寸面板的发展，显示器需要更低的电阻电容信号延迟(RCdelay)、更短的充电时...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。