技术编号:11172384
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。铜/钼膜或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物本申请为基于申请号为201410012683.2做出的分案申请,原申请的申请日为:2014.01.10;原申请的发明名称为:本发明涉及一种铜/钼膜或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物,尤其是用于TFT-LCD、OLED等显示器电极的铜/钼膜或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物。背景技术半导体装置、TFT-LCD、OLED等微电路是通过在基板上形成的铝、铝合金、铜及铜合金等导电性金属膜或二氧化硅膜、氮化硅薄膜等绝缘膜上,均匀地涂抹光刻胶,然后通过刻有图案的薄膜,进行光照射后成像...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。