技术编号：11179162
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种等离子体(plasma)处理装置。背景技术在半导体装置或液晶显示器(display)或者光盘(opticaldisk)等各种产品的制造工序中，有时要在例如晶片(wafer)或玻璃(glass)基板等工件(work)上形成光学膜等薄膜。薄膜能够通过对工件形成金属等的膜的成膜、或对所形成的膜进行蚀刻(etching)、氧化或氮化等膜处理而制作。成膜或膜处理能够利用各种方法来进行，作为其一，有使用等离子体的方法。在成膜时，向配置有靶材(target)的腔室(chamber)内导入惰性气体...
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