技术编号：11181542
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种在衬底上沉积薄膜的装置。背景技术在衬底上制造薄膜一般需要分子流、原子流或离子流流向衬底。这些流束在衬底表面的合适位置凝结形成一固体膜，通常这些沉积的方法称为物理气相沉积（PVD）。例如包括脉冲激光沉积（PLD）和脉冲电沉积（PED）。来自激光或电子束的绝对高能量密度脉冲可以消融靶材（将一定量的固体靶材转变为等离子体）。该等离子体以等离子羽流的形式向外扩展至目标物，该等离子羽流具有目标化合物的组合物。脉冲电沉积（PED）需要在靶材表面提供一个电子束能量密度大于等于瓦/平方厘米的电子束...
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