技术编号：11202888
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。具有高度对称四重式气体注入的等离子体反应器本申请是申请日为2014年2月3日、申请号为201480003017.0，题为“具有高度对称四重式气体注入的等离子体反应器”的申请的分案申请。技术领域本揭示案是关于用于处理工件(诸如半导体晶圆)的等离子体反应器的气体注入系统。背景技术控制等离子体反应器的腔室中的处理气体分配影响等离子体处理期间工件的蚀刻速率分配或沉积速率分配的工艺控制。安装在腔室顶部上的可调谐的气体注入喷嘴可具有针对不同区域(诸如中心区域及侧面区域)的不同的注入狭缝。分离的气体输入可供应...
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