技术编号:11203060
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。绝缘壁及其制造方法优先权请求本申请要求于2016年3月22日提交的法国专利申请号16/52441的优先权,其公开内容在法律允许的最大程度上通过整体引用并入于此。技术领域本公开涉及一种绝缘壁及其制造方法。背景技术在许多集成电路中,特别地,在像素中,绝缘壁被布置在半导体区域之间以便它们彼此绝缘。更特别地,这里考虑了绝缘壁由绝缘导体制成的情况,即,绝缘壁形成在沟槽(trench)中,该沟槽的壁和底部涂覆有绝缘材料沟槽中,并且该沟槽填充导电材料。图1A、图1B和图1C图示了包括由绝缘导体制成的绝缘壁的像...
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