技术编号:11206671
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本公开涉及镀膜领域,特别涉及一种镀膜机。背景技术在镀膜领域,镀膜后薄膜样品的厚度是影响薄膜性能的一个重要因素。因此,当评价某薄膜样品的性能时,需要检测该薄膜样品不同厚度下的性能。对于真空镀膜的情形,这往往需要进行多次试样的制备。而这样多次制备样品存在两个问题:首先,不同次生长的样品,仪器的状态不同,以至于影响薄膜样品性能的因素可能不仅仅是厚度;其次,真空镀膜实验装取样品需要重新进行真空的获得,非常耗时。增加了生产和检测的成本。因此,需要提供一种能在同一基片上生长不同厚度薄膜的设备来解决现有技术的...
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