技术编号：11208655
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。EUV投射光刻的照明光学系统相关申请的交叉引用本专利申请要求德国专利申请DE102015202411.3和DE102015208571.6的优先权，其内容通过引用整合于本文。技术领域本发明涉及一种EUV投射光刻的、用照明光来照明物场的照明光学单元，物场中可布置待成像物体。此外，本发明涉及一种包括这样的照明光学单元的照明系统，包括这样的照明光学单元的光学系统以及包括这样的光学系统的投射曝光设备。此外，本发明涉及一种规定投射曝光设备的物场的场高度之上的照明光强度的预期分布的方法。此外，本发明涉及一种...
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