技术编号：11214201
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及硅片清洗领域，特别是涉及金刚线切割后的硅片领域。背景技术目前对金刚线切割后的硅片一般都是直接通过碱性清洗剂进行清洗，这样使得硅片表面残留的金属离子、有机物、碱性清洗液不能根除，硅片在后续电池碱洗制绒过程，往往会出现表面制绒不均匀，呈现花斑现象。发明内容本发明所要解决的技术问题是：如何避免由于金刚线切割后的硅片没有清理干净造成的硅片在后续电池碱洗制绒过程出现表面制绒不均匀的问题。本发明所采用的技术方案是：发现硅片在后续电池碱洗制绒过程出现表面制绒不均匀的问题有部分原因是因为金刚线切割后的...
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