技术编号:11214254
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体技术领域,具体而言涉及一种半导体器件及其制作方法和电子装置。背景技术对于高容量的半导体存储装置需求的日益增加,这些半导体存储装置的集成密度受到人们的关注,为了增加半导体存储装置的集成密度,现有技术中采用了许多不同的方法,例如通过减小晶片尺寸和/或改变内结构单元而在单一晶片上形成多个存储单元。随着半导体技术的发展,集成电路尤其是超大规模集成电路中的主要器件金属-氧化物-半导体场效应晶体管(简称MOSFET)的几何尺寸一直在不断缩小,器件关键尺寸的不断缩小使得栅介质等效氧化物厚度已小...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。