技术编号：11215100
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及到激光控制成像领域，特别是涉及到一种激光成像控制方法与装置。背景技术高亮度大功率半导体激光器是固体激光器和光纤激光器的理想泵浦源，广泛应用于材料加工、自由空间通讯、医疗等领域。随着高功率半导体激光器的广泛应用，可靠性成为限制其应用的重要影响因素。在半导体激光器中，随着输出功率的提高，对激光器散热能力的要求也越来越高，温度升高时器件会出现模式竞争，同时，光谱的谱宽变大，因此，散热成为影响器件寿命和可靠性的重要指标，关系到激光器器件性能的好坏和成败。如果激光器散热不及时，势必造成结温升高，...
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