技术编号：11229507
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及显示技术领域，尤其是涉及一种阵列基板、液晶面板、显示设备及阵列基板的制作方法。背景技术在液晶面板的制作过程中，为保证阵列侧像素电极氧化铟锡导电膜层(Indiumtinoxide，ITO)的蚀刻均匀，在外围的扇形走线区域通常会放置一些无用的ITO图案，称之为外围ITO层。外围扇形走线区的线距一般为4-8um左右，这种间距对于制程要求较为苛刻，一些灰尘、微粒等杂质极易导致不同导线间连通，发生短路。通常金属走线发生短路后会影响产品的功能，在后端的制程中可以通过一系列的方法检测出来并进行修补，...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。