技术编号:11230306
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种多晶硅生产用的还原罩内壁镀银的磁控溅射装置及方法。背景技术高纯度的多晶硅是电子及太阳能光伏产业的基础原料,多晶硅的生产绝大部分采用改良西门子工艺,其中还原炉是多晶硅生产的核心设备之一,多晶硅还原炉主要由双层结构的钟罩式炉体,底盘及其他附属部件组成。由于多晶硅的生产是在1300度高温及强酸的条件下进行的,为了减少设备材质对多晶硅产品的污染及抵御高温化学腐蚀,还原炉的炉体一般为不锈钢316材料制成。多晶硅的生产需要消耗大量电能,一般来讲,电力成本占多晶硅产品总成本的50到75%左右,因...
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