技术编号:11230319
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及多系统混合气体供给设备和采用该供给设备的基板处理装置。背景技术以往公知有一种气相生长装置,该气相生长装置包括:基座,其用于载置被处理基板;气体供给部,其与所述基座相对,用于向被处理基板上供给多个材料气体;多个混合配管,其用于将所述多个材料气体中的规定的多个材料气体混合并分别向所述气体供给部导入;以及多个气体分支机构,其用于针对所述多个材料气体分别调整流量并分支地分别输送到所述多个混合配管中的任一个,所述气体供给部向所述基座上的多个区域分别喷上在所述多个混合配管中分别混合而成的多个混合气...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。