技术编号：11231944
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及，特别是一种基于自适应卷积核的磁共振相位图的背景场去除方法。背景技术磁化率定义为物质放入外磁场后的磁敏感性反应，是物质的固有属性。磁共振成像(MagneticResonanceImaging,MRI)中，每一种物质在放入磁场后都可以得到一定程度的磁化，磁化与磁场大小及组织的磁化率成正比。如果施加一个足够长的TE，自旋频率不同的质子间将形成明显的相位差别，从而在相位图上区别出磁敏感性不同的组织。定量磁化率成像(QuantitativeSusceptibilityMapping,QSM)利...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。
请注意，此类技术没有源代码，用于学习研究技术思路。