技术编号:11232973
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体处理领域,更具体地涉及用于吹扫半导体处理室狭缝阀开口的装置。背景技术一些半导体处理工具经由通道将晶片移入和移出处理室,该通道从处理室外部区域延伸穿过处理室壁到达处理室内部。这样的通道可以在通道的端部上具有闸阀(即狭缝阀),该闸阀可以打开以允许晶片穿过通道,并且可以封闭和/或密封(例如,压力或流体密封)通道使得处理室的内部与处理室外部的区域隔离。发明内容在一个实施方式中,可以提供半导体处理室。所述半导体处理室可以包括:用于半导体处理的内部体积,至少部分地界定所述半导体处理室的外侧和...
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