技术编号:11233023
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种阵列基板的制作方法、阵列基板和显示装置。背景技术液晶显示器(LCD)阵列基板中,基于电容的考虑,会在源漏金属层图形上方形成平坦化层,然后在平坦化层上方形成透明导电氧化物层图形(像素电极或公共电极),并在透明导电氧化物层图形上方形成金属层图形。考虑到成本原因,在制作透明导电氧化物层图形和金属层图形时,应尽量采用HTM(半色调掩膜,HalfToneMask)工艺。相关的HTM工艺的流程步骤如下:步骤11:在平坦化层上依次形成透明导电氧化物层和金属层;步骤12:在所...
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