技术编号:11235562
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。检查方法和系统以及使用其检查半导体器件的方法对相关申请的交叉引用本专利申请要求于2016年3月3日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2016-0025805号的优先权,该韩国专利申请的公开内容通过引用整体合并于此。技术领域本发明构思涉及一种检查方法和系统以及使用该检查方法和系统检查半导体器件的方法。背景技术由于半导体器件的小型化(small-sized)、多功能和/或低成本特性,半导体器件是电子工业中的重要元件。可以使用诸如光刻、蚀刻、沉积、离子注入和清洗工艺的各种工艺来制造半导体器件。...
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