技术编号：11249937
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光刻工艺制备领域，尤其涉及一种显影装置及光刻设备。背景技术TFT-LCD(ThinFilmTransistorLiquidCrystalDisplay，薄膜晶体管-液晶显示器)作为一种平板显示装置，因其具有体积小、功耗低、无辐射以及制作成本相对较低等特点，而越来越多地被应用于高性能显示领域当中。TFT-LCD的阵列基板中具有通过光刻(MASK)工艺形成的薄膜图案，例如TFT的栅极、源极、漏极等。其中，上述光刻工艺包括成膜、曝光、显影等工艺。在显影过程中，图形的分布密度不同，显影速度也不...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。