技术编号：11251103
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于集成电路可靠性设计，具体涉及一种基于窗口的双重图形版图配色方法。背景技术随着工艺尺寸的不断缩小，互连线宽度持续缩小，芯片的制造对于光刻分辨率的需求持续增加。进入45nm节点以后，受光刻影响的良率已经达到了50％以上，光刻技术成为了制约半导体技术发展的瓶颈。工业上使用的193nm光刻波长已经达到了分辨率极限，而极紫外光刻技术仍有许多问题亟待解决，继续使用ArF光源，版图的制造只能使用双重图形甚至多重图形技术来实现。双重图形技术的关键思想是将原版图图形分解到两张不同的掩膜版上，从而增加图形...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。
请注意，此类技术没有源代码，用于学习研究技术思路。