技术编号：11259791
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种稳定槽液pH值的方法，尤其涉及一种稳定微弧氧化槽液pH值的方法，同时涉及实现这种稳定方法的装置。背景技术微弧氧化是将Al、Mg、Ti等有色金属或合金置于电解质水溶液中，通过电解液与相应电参数的组合，利用短电弧放电和电化学方法在材料表面产生弧斑，即在热化学、等离子体化学和电化学的共同作用下，生成陶瓷膜的方法。因微弧氧化工艺简单、成膜快、膜层硬度高、耐磨性好、设备简单、操作方便等特性，故在航空航天、兵器制造和电子产业方面已得到广泛应用。微弧氧化前，工件清洗预处理后其表面附着大量去离子水...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。