技术编号:11262656
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。用于旋转压板式ALD腔室的等离子体源本申请是申请日为2014年3月14日、申请号为201480015817.4、题为“用于旋转压板式ALD腔室的等离子体源”的分案申请。技术领域本发明的实施例总体涉及用于处理基板的装置。更具体而言,本发明涉及用于在基板上执行原子层沉积(ALD)和化学气相沉积(CVD)的批量处理平台。背景技术形成半导体器件的工艺通常在容纳有多个腔室的基板处理平台中进行。在一些情况下,多腔室式处理平台或群集工具的目的在于,在受控环境中,顺序地对基板执行两个或更多个工艺。然而,在其他情...
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