技术编号：11275434
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及显示技术领域，特别是指一种掩膜版清理装置及方法。背景技术掩膜版(mask)是显示技术领域中一种非常常见且重要的工具或部件。通常应用于阵列基板的构图工艺，或者，在有机发光二极管(OLED)显示基板的制作过程中，应用于蒸镀工艺中以辅助形成有机发光层。因此，对于使用后的掩膜版，清理、检测和修复就成为了一项非常重要的工作。现有技术中，掩膜版主要的清理方法是使用激光(laser)直接照射异物的方式对异物进行清理。但是，发明人在实现本发明的过程中，发现现有技术中的掩膜版清理方法至少存在以下问题：现...
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