技术编号：11289752
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及显示领域，具体地，涉及阵列基板及其制备方法和显示装置。背景技术在高像素产品边缘场效应型(ADS)显示模式或低温多晶硅(LTPS)中，一般为增加存储电容需要做亚克力层，亚克力是一种可塑性高分子材料，有较好的透过性和易染色的特点。亚克力层可以增加透过率和平坦度，但还是存在开口率不足的情况。且传统黑矩阵挡光层设计在彩膜基板上，黑矩阵挡光层的宽度较宽，从而使液晶屏的开口率较小，不能满足高像素产品对高开口率的需求。因此，关于显示器件开口率的研究有待深入。发明内容本发明旨在至少在一定程度上解决相关...
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