技术编号：11290561
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。用于二次离子质谱仪的一次铯离子源相关申请的交叉引用本申请要求于2014年10月13日提交的美国临时专利申请第62/063,023号的权益，前述申请的全部内容以引用的方式并入本文。技术领域本公开涉及用于二次离子质谱仪的一次离子源，以及用于制作该离子源的方法。背景技术二次离子质谱仪(SIMS)是一种广泛使用的表面和薄膜分析技术，其广泛地应用于半导体工业、地球化学和材料研究、以及其它技术领域中。世界上存在500多种商用仪器。该技术通过用高能离子束(“一次”离子束)轰击样品来生成分析信号，该高能离子束从...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。
该类技术注重原理思路，无完整电路图，适合研究学习。