技术编号：11311362
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及超高真空设备领域，特别涉及一种磁偏转电子束蒸发源。背景技术在半导体集成电路，传感器和太阳能电池板的生产过程中，很多结构都需要真空镀膜技术来生成。因此真空镀膜直接决定了半导体和太阳能电池板等产品的质量。真空镀膜的研究与应用都离不开其产生设备，因此蒸发源的研发具有重要意义。目前国内外的主要真空镀膜技术有真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜，其中应用最多的是真空蒸发镀膜。真空蒸发镀膜技术，即在高真空或超高真空的腔室中通过蒸发源加热使膜材(如金属或化合物)蒸发。蒸发的粒子从膜材表面逸出...
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