技术编号：11322671
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。曝光装置、器件制造系统及器件制造方法本发明申请是国际申请日为2013年11月29日、国际申请号为PCT/JP2013/082185、进入中国国家阶段的国家申请号为201380066736.2、发明名称为“基板处理装置、器件制造系统及器件制造方法”的发明申请的分案申请。技术领域本发明涉及基板处理装置、器件制造系统及器件制造方法。背景技术以往，作为基板处理装置，已知在光罩与板件(基板)之间配置有投影光学系统的曝光装置(例如，参照专利文献1)。该投影光学系统包含透镜组、平面反射镜、两个偏振光分束器、两...
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