技术编号：11330204
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及阻气性膜及其制造方法。特别是，本发明涉及包含以下层叠体的阻气性膜的制造方法以及阻气性膜，其中该层叠体具有在由高分子材料形成的基材面上的原子层沉积膜以及在该原子层沉积膜上形成的外覆层(オーバーコート層)。本申请基于2015年2月26日在日本申请的特愿2015-036374号主张优先权，其内容以引用方式并入本文。背景技术近年来，正在进行使用了有机半导体技术的有机EL显示器领域、有机EL照明领域、有机太阳能电池领域、电子纸领域等的下一代设备的开发，其中一部分已经投入实际应用。成为这些设备的基...
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