技术编号：11406213
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及纳米压印技术，尤指一种纳米压印模板及其制备方法。背景技术为追求更小特征尺寸，避免光学光刻瓶颈，纳米压印工艺最先被美国明尼苏达大学提出，属于下一代光刻技术，是一种低成本、高效率的纳米级图案转移技术。研究表明压印的最小特征尺寸可以达到10nm。目前压印所使用的纳米压印模版通常用电子束刻蚀等技术进行制作，无法制作大尺寸的纳米压印模版。而对于大尺寸的显示产品，如果采用小尺寸的纳米压印模板进行压印制作，工艺难度大，效率低，而且制作得到的大尺寸显示产品的质量难以保证。发明内容为了解决上述技术问题，...
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