技术编号：11406217
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种基板曝边设备。背景技术光刻工艺是现代显示器生产的核心工艺之一，其主要包括涂布、曝光和显影等制程。曝边制程是曝光之后、显影之前的辅助制程，主要目的是对位于基板边缘区域的厚度异常的光阻进行充分曝光，以便在显影制程中能够将曝边部分的光阻全部溶解掉，从而有利于蚀刻制程中将边缘的膜全部去除，避免后续制程和工艺上的不良。现有技术中，曝边设备的承载台采用支撑柱设计，在基板的周向边缘处同样设置有用于支撑的支撑柱，如图1、图2所示。在基板11的非边缘区域112设置有用于支撑基板...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。