技术编号：11406226
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种曝光基台及曝光设备。背景技术在显示基板的制造过程中，通常需要在基板(衬底基板或形成有一定图形的基板)上形成薄膜，然后在薄膜上涂覆光刻胶，并采用曝光设备，通过具有一定图形的掩膜版对光刻胶曝光。其中，曝光设备包括曝光基台，掩膜版设置在曝光基台的上方，在曝光时，可以将基板设置在曝光基台上，采用曝光基台将基板托举至掩膜版附近，然后通过掩膜版对基板进行曝光。相关技术中，曝光基台包括承载板、滑轨、滑块、托举杆、电机和固定底座，承载板具有承载面和与该承载面相对的固定面，托举...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。