技术编号:11413129
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于精密加工研磨抛光领域,涉及一种高固含量纳米级二氧化硅抛光薄膜及其制备方法。背景技术光纤连接器作为组成光纤系统最重要的光无源器件之一,在性能上要求其插入损耗更低、回波损耗更高,以提高光纤传输系统可靠性。评价光纤连接器的质量,需要测量连接器插针体端面在研磨抛光后的表面质量。只有使表面质量保证在一定的范围之内,才能保证光纤保持良好的通信质量;另外,还要尽量去除光纤端面的变质层,并测试光纤端面是否有划痕或其它污损。最后要满足插入损耗低、回波损耗高的性能。因此,光纤连接器的研磨与抛光过程对提高其...
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