技术编号：11445545
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明要求于2014年11月24日提交的未决美国临时申请No.62/083,726的优先权，其通过引用并入本文。背景技术本发明涉及用于形成衍生化表面的改进方法和由此形成的改性表面。更具体而言，本发明涉及通过位于氧化物表面上的具有活性氧化物基团(优选羟基)的表面改性化合物的微波辅助缩合反应，从而形成自组装单层(SAM)的方法。本领域一直希望能够提供具有特定官能性的表面。官能性可以是反应性，其中某些材料选择性地结合至表面或在表面上发生反应，或者官能性可以用于钝化以抑制表面上的结合和反应，从而保护表面...
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