技术编号:11446497
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本公开涉及一种用于在处理腔室中的层沉积期间支撑基板载体和掩模载体的固持布置、用于在基板上沉积层的设备、以及用于将支撑基板进行层沉积的基板载体与掩模载体对准的方法。本公开的实施方式特别涉及在处理腔室中的层沉积期间以在实质上垂直的取向支撑基板载体和掩模载体的固持布置、用于在实质上垂直的取向上在基板上沉积层的设备、以及用于在实质上垂直的取向上将支撑基板进行层沉积的基板载体与掩模载体对准的方法。背景技术目前已知用于在基板上沉积材料的一些方法。例如,可通过使用蒸发工艺、物理气相沉积(PhysicalVap...
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