技术编号:11449804
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及硅片技术领域,尤其涉及一种表面覆膜的双面单晶硅片。背景技术单晶硅片常用于制造半导体器件、太阳能电池等。用高纯度的多晶硅在单晶炉内拉制而成。但是现有的太阳能电池上的单晶硅片往往设计成单面接受光照的结构,极大的制约了单晶硅片作为太阳能组件时的光电转换效率,并且单晶硅片在安装的过程中容易发生碎裂。实用新型内容本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在单面接受光照、光电转换效率低的缺点,而提出的一种表面覆膜的双面单晶硅片。为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:设计一种表面覆膜的双面...
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