技术编号：11452652
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。用于间隙检测的智能止动器和控制机制背景本公开的实施方式总体上与用于处理基板的设备有关。更特别地，本公开与用于在基板上执行原子层沉积(ALD)与化学气相沉积(CVD)的批量处理平台有关。形成半导体器件的工艺通常在含有多个腔室的基板处理平台中执行。在一些实例中，多腔室处理平台或群集工具的目的是在受控制环境中连续地在基板上执行两种或两种以上工艺。然而，在其他实例中，多腔室处理平台可仅在基板上执行单个处理步骤；而附加的腔室旨在使由平台处理基板的速率最大化。在后者的情况下，在基板上执行的工艺通常为批量工艺...
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