技术编号:11468724
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。:本实用新型涉及镀膜技术领域,特别涉及一种真空镀膜分流气管。背景技术:目前,物理气相沉积法(PVD)被广泛用于镀装饰膜层于电子装置的外壳;真空镀膜装置中设置有气管,而原装气管只是单一气管,由于气管内压差问题,造成单支气管上各出气口上的出气量不同,从而造成了产品的颜色不均匀,形成了同一炉次的产品出现较大的色差,这状况使在PVD生产上的效益大大减少;此外,有的时候还要采用局部堵塞出气孔的方式来调整气体的分布,这样不仅费时,且较难保证气体的均匀分布,还可能导致镀膜产品存在色差。实用新型内容:本实用新型...
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