技术编号：11477388
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种在基板上制备导电图案的制程。背景技术已知，业界现有的在基板上制备导电图案的方法，是一种在黄光环境下进行的黄光制程，其整个制程主要包括以下步骤：成膜步骤、光刻胶涂布步骤、曝光步骤、显影步骤、刻蚀步骤、剥离步骤。这种现有导电图案工艺制程的优点在于，其工艺成熟，可以达到很高的精度及良率，因此，被广泛应用于TFT和导电图案的制备。但同时，由于制程中涉及使用的光刻胶，其所具有光敏感性以及其必须在黄光环境下进行曝光，使得其整个工艺制程涉及的步骤较多，工艺流程严格复杂。另外，由于曝光工艺较为复杂...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。