技术编号:11482556
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及晶硅太阳能电池生产设备领域,是一种PECVD镀膜设备的带有抽真空系统的平板式PECVD进料腔。背景技术PECVD(PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition)即等离子体增强化学气相沉积技术,是指借助微波或射频使含有薄膜组成原子的气体发生电离在局部形成等离子体,借助等离子体活泼易反应的化学特性在基片上沉积出所期望的薄膜。该技术被广泛应用于晶体硅太阳能电池的生产中。太阳能行业所用的板式PECVD采用真空腔室作为反应室,因此在工艺过程中需要用真空泵不停地对...
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