技术编号：11490284
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及有色金属冶金技术领域，尤其指一种制备纳米级高纯度三氧化钼的装置及其使用方法。背景技术三氧化钼是钼冶金中最重要的中间体，大多数钼的化合物都是直接或间接的以它为原料制得的，三氧化钼在催化剂、显示装置、传感器、相机电池等领域都有广泛的应用。由于三氧化钼在较低的温度下即具有较显著的蒸汽压，所以可以用升华法对三氧化钼进行净化，在升华的操作条件下，通常与之共生的杂志或不具有挥发性（如硅酸盐等）或不能冷凝而被除去。US6468497公开了一种纳米三氧化钼的生产方法，将工业氧化钼采用升华-骤冷法生产出...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。