技术编号：11496646
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本申请涉及显示技术领域，特别是涉及一种紫外光清洗基板的方法及系统。背景技术在显示器的制备过程中，基板的清洗是其中的一项重要工艺，直接影响产品的品质。为了去除基板表面黏附的有机物，保证基板的洁净，目前得到广泛应用的一种清洗基板的方法是利用有机物的光敏氧化作用通过紫外光对基板进行清洗。紫外光表面清洗技术是非接触式高清洁干法表面处理技术，其特点是：清洗后的洁净度能够到达原子级，它借助光和气的作用把玻璃表面黏附的各类有机物彻底清除干净，由于不直接接触表面就不会造成基板表面的损伤，同时不会对环境造成污染。...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。