技术编号:11507172
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种磁控溅射固体润滑膜的制备方法,具体涉及一种二硫化钨薄膜的制备方法,属于材料的摩擦磨损与固体润滑领域。背景技术过渡金属硫化物薄膜,如二硫化钨(WS2),因具有层状晶体结构而呈现出优异的润滑性能,已在金属加工、航空航天、真空设备等摩擦学工程领域得到了广泛应用。但由于其在潮湿大气中容易吸附氧气和水蒸汽,使耐磨性能大幅度降低,服役性能和使用场合受到较大限制。因此,如何提高WS2薄膜在潮湿环境中的摩擦磨损性能得到了极大关注,尤其是磁控溅射WS2薄膜,因其成分及厚度均匀性较好且易于控制、组织结...
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