技术编号：11514059
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及电路板技术领域，特别是一种电路板曝光装置。背景技术曝光机是集电子光学、电气、机械、真空、计算机技术等于一体的复杂的半导体加工设备，70年代以后广泛应用于半导体集成电路制造业，是在计算机的控制下，利用聚焦电子束对有机聚合物(通常称为电子抗蚀剂或光刻胶)进行曝光，它常用于半导体制造，光电电子，平板，射频微波，衍射光学，微机电系统，凹凸或覆晶设备和其他要求精细印制领域。在电路板加工过程中，需要对电路板进行曝光，而目前最常用的曝光方式就是采用曝光机曝光，但是现有的曝光机结构较为复杂、曝光效率不...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。