技术编号：11518023
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。：本发明涉及一种制备亲疏图案的方法，具体涉及一种制备亲疏图案的光刻方法。背景技术：亲疏图案是指由亲水区和疏水区组成的图案，它在微通道、胶版印刷、细胞生长和筛选、表面粘附性的控制等都有着广泛的应用前景。亲疏图案的制备方法包括剥离、喷墨印刷、激光刻蚀、紫外光刻等方法，其中紫外光刻方法是应用最为广泛的一种。紫外光刻技术是指在紫外光照作用下，借助光刻胶将光掩膜版上的图形转移到基片上的技术。在此种紫外光刻技术中，光掩模版是必须的。然而，光掩模版的使用在一定程度上使光刻过程变得复杂，并且限制了光刻技术的使用...
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