技术编号：11518033
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种简易光刻机。背景技术光刻机又称掩模对准曝光机，常用于电子工艺中硅片、电路版的曝光工艺工序。光刻机通常以高压汞灯作为光源，通过光路优化得到均匀稳定的以紫外光为主的光线对光刻胶进行曝光。商品化的光刻机的体积庞大而且价格昂贵，一般的光刻机售价都在十几万元以上，因此对于普通精度的曝光（>1μm），使用简易的光刻机即可满足光刻要求。目前除采用商品化光刻机进行曝光以外，对于简单的曝光，通常采用汞灯直接照射的方法。直接照射法的曝光方式有几个明显的缺点，首先是操作人员曝露在强紫外光的环境中，...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。